南京集成电路国际城研发园位于浦口高新区集中建设区内,坐落于三桥廊道旁,项目占地面积2.1万㎡,总建筑面积12.7万㎡,由A座和B座两栋研发楼组成,分别为22层和15层,地下车库3层。
项目配备餐厅食堂、健身房、休闲咖啡、多功能厅等,是高新区打造的一个集办公、休闲、景观、生态、艺术于一体的创新型产业园区,后期将以“未来数字谷”作为品牌进行打造。
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